曝光系统，这可是光刻机核心中的核心啊，曝光系统还有问题，就敢喊“明年交付”？
“哎！”程旭叹了口气，瞬间想到了什么，也有些理解，这其中应该还有一些战略目的。
“是光学问题，还是系统问题？”程旭接着问道。
光学问题，就是超精密光学技术了，其中包括光源、掩膜版（台）、透镜等很多部分。
系统问题，那就涉及超精密光机系统协同、驱动控制、信息处理等多个模块。
“这两个问题其实可以归结为一个问题。”
来之前，赵辉已经获得授权，拿到了所有的资料，就是为了给程旭做考察之前的介绍：
“光学系统的精度不够，本身是硬件问题。国科精密已经做到极限了，还是满足不了28nm光刻机的需求。就现在，他们的人员还在不断的尝试攻克这一问题。
“而我们，也在尝试，通过更智能的系统来解决这一问题，计算机辅助、物镜光路智能跟进优化等，效果也不好。”
也正因如此，沪微对程旭十分重视，哪怕他还是只是一个学生——甚至还专门在公司内寻找到了他的同乡，赵辉来接待。
因为他们知道，更强大的智能手段是能解决这个问题。而“言心”的一夜蜕变更是证明了程旭的实力。
而程旭，后槽牙都快咬断了——他的目标可不是28nm光刻机，而是7nm的制程工艺啊！这下还怎么搞！
尤其是调研了试产产线和看到了试产芯片效果的时候，程旭更是久久无言。
一个按照28nm级别打造的设备，现在试产40nm，堪堪达标。
试产28nm，良率，就别叫良率了吧，整片8寸晶圆，就没产出几块儿能用的芯片。
更不用说套刻14，套刻7nm了。要知道，DUV光刻机的极限套刻精度是2.5nm啊！
当然，成本奇高，不会有真正产线这么干就是了。
但，台积电用DUV量产了7nm的芯片，这是实打实可以做到的。
这也是程旭敢说7nm的根源所在，但现在……
七天，程旭整整在样机产线钻研了七天，一直摇头叹息外加不断感叹，但硬件本身不达标，又能怎么办呢？
“怎么？有困难？”赵辉一路陪同，安慰道：
“不用急，大家都知道光刻机的难度，你这刚来，就算能解决，那也得几个月半年的时间吧？不用那么着急的！”
“行了，叫人吧，开会。”程旭也不再纠结，心里有了决定，在这儿耗着，或许还不如回去研究荷泵提升来的快捷。
“能解决！”工程师们都到齐之后，程旭咬牙切齿的说了这么一句话
“嗯？”
所有人都疑惑了，他们一进来就看到程旭凝重的表情，那意味着事情无比棘手，怎么说出了“能解决”这四个字儿呢？
而且，这语气，好像跟谁苦大愁深一样，这是能解决的样子吗？
程旭没有注意众人的表情，而是介绍起自己的发现：
“这台光刻机问题很多，首先，物镜的标准还是很高的，满足28nm光刻机绝对没有问题。
“那问题出在哪儿了呢？是内部投影物镜的温度波动！”
“随着光刻机分辨率的不断提高，集成电路【芯片特征线宽】逐渐缩小，温度，哦，也包括湿度和环压，这些外部环境参数的波动对成像质量的影响越来越大。
“比如，投影物镜的温度波动就会直接引起焦面位置漂移和成像畸变，这台光刻机的境况就是因此此造成的。
“越高端的光刻机对环境参数的苛刻程度就越高，深紫外DUV光刻机就已经这样了，未来做极紫外EUV光刻机相关要求只会更加苛刻。”
“哦呜~”所有的工程师们都瞬间松了一口气，别的不说，就程旭这判断，可以说精准无比。
要知道，他可是只要了生产过程资料和设备参数，并没有听取沪微其他的问题报告。
之前虽然相信智能手段能够解决这个问题，但任谁看到一个二十多岁的小孩儿，心里都是犯嘀咕的——这个年纪的人，即便沪微有，那也是实习生吧？
但程旭仅凭自己，一周的时间，就发现了他们光学系统问题的核心关键点。
众人的信心一下自己又回来了——至于程旭一脸凝重甚至是咬牙切齿的表情，则是被他们忽视了，那大概是他固有的面容吧。
“那怎么解决呢？”程旭接着说道：
“直接加热或者冷却是不可能的吧？利用液体循环温控回路对投影物镜温度进行远距离间接控制是惯用方案，我们这个光刻机现在就是这种方案。
“但我们都知道，液体循环温控回路是一个非线性、多时滞、多重扰动的复杂大系统，这种大惯性将导致温度收敛速度缓慢。
“对于此，研发控制稳定度高、收敛速度快的温度控制高智能算法就是有效的解决方案。”
“智能控制算法以【决策信息集】和【推理规则库】为基础，通过他们的结合实现，利用【智能决策算法】实现恰当的控制方式选择。
“其中【决策信息集】来自控制过程的各种数据积累，【推理规则库】则来自对控制过程的长期认知。”
“需要荷泵体系芯片支持？需要训练决策、推理相关的AI？”
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